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紫外臭氧清洗機的應用範圍十分廣泛

更新時間•₪✘✘:2022-04-28   點選次數•₪✘✘:532次
   紫外臭氧清洗機是一種簡單✘✘,經濟✘✘,快速的材料表面清洗裝置✘✘,只需把樣品放置到樣品盤上✘✘,關上艙門✘✘,設定時間✘✘,並按執行✘✘,就可以了✘✘,能快速去除大多數無機基材(比如石英✘✘,矽片✘✘,金✘✘,鎳✘✘,鋁✘✘,砷化鎵✘✘,氧化鋁等)上的有機汙染物│☁✘☁。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時✘✘,紫外清洗非常理想│☁✘☁。
  
  紫外臭氧清洗機的光清洗技術的應用範圍十分廣泛✘✘,在現代資訊科技行業中使用光清洗技術比較普遍✘✘,隨著我國工業現代化的發展✘✘,光清洗和光改質技術還將逐步應用於金屬▩·•│、塑膠▩·•│、橡膠等工業生產領域│☁✘☁。
  1▩·•│、在LCD▩·•│、OLED生產中✘✘,在塗光刻膠▩·•│、PI膠▩·•│、定向膜▩·•│、鉻膜▩·•│、色膜前經過光清洗✘✘,可以極大的提高基體表面潤溼性✘✘,增強基體表面的粘合力;
  2▩·•│、印製電路板生產中✘✘,對銅底板✘✘,印刷底板進行光清洗和改質✘✘,在導線焊接前進行光清洗✘✘,可以提高熔焊的接觸面積✘✘,大大增加連線強度│☁✘☁。特別是高精度印製電路板✘✘,當線距達到亞微米級時✘✘,光清洗可輕易地去除線上距之間很小的微粒✘✘,可以大大提高印製電路板的質量│☁✘☁。
  3▩·•│、大規模積體電路的密度越來越高✘✘,晶格的微細化越來越密✘✘,要求表面的潔淨度越來越高✘✘,光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度✘✘,而且對晶片表面不會造成損傷│☁✘☁。
  4▩·•│、在半導體生產中✘✘,矽晶片塗保護膜▩·•│、鋁蒸發膜前進行光清洗✘✘,可以提高粘合力✘✘,防止針孔▩·•│、裂縫的發生│☁✘☁。
  5▩·•│、在光碟的生產中✘✘,沉積各種膜前作光清洗準備✘✘,可以提高光碟的質量│☁✘☁。
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銷售經理•₪✘✘:李國海

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