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紫外臭氧清洗機的表面清洗和製程方法有多種選擇

更新時間☁▩◕•·:2022-08-16   點選次數☁▩◕•·:127次
   相信大家對紫外臭氧清洗機已經不會感到陌生了吧↟│₪│,它具有安全◕▩、簡易的操作特點↟│₪│,配置了安全感測器將避免臭氧環境汙染和紫外線對操作者的暴露;並擁有良好的簡易人機互動控制介面↟│₪│,不需要任何特殊的培訓即可使用✘↟·↟◕。隨著我國工業現代化的發展↟│₪│,光清洗和光改質技術還將逐步應用於金屬◕▩、塑膠◕▩、橡膠等工業生產領域✘↟·↟◕。
  
  紫外臭氧表面清洗應用範圍較廣↟│₪│,在材料研究和器件製造等很多領域都有應用✘↟·↟◕。可以用於矽片和塑膠包裝的表面清洗;用於在MOCVD和ALD工藝之前對III-V複合半導體晶圓片(如GaAs和InP)進行表面清洗;用於玻璃◕▩、PDMS◕▩、PMMA◕▩、COC◕▩、COP等基材的直接清洗;適用於各類材質表面的有機汙染物清洗✘↟·↟◕。
  
  雖然表面清洗和製程方法有多種選擇↟│₪│,但紫外臭氧清洗顯示出優於其他方法的幾個優點✘↟·↟◕。而傳統清洗方式分別為幹法清洗和溼法清洗兩種方式☁▩◕•·:
  1◕▩、與幹法清洗對比↟│₪│,基板充電損傷小✘↟·↟◕。在等離子體處理中↟│₪│,離子轟擊引起的充電損傷是一個嚴重的挑戰✘↟·↟◕。它會導致器件的電氣特性退化✘↟·↟◕。紫外臭氧處理提供表面處理使用氧自由基沒有等離子體放電↟│₪│,它是等離子體蝕刻的一種經濟有效的替代方法↟│₪│,因為它不需要任何特殊的真空室◕▩、氣體或特殊裝置✘↟·↟◕。
  2◕▩、與溼法清洗對比↟│₪│,沒有有害的廢水✘↟·↟◕。溼式清洗需要處理化學廢水↟│₪│,與溼法清洗相比↟│₪│,紫外UV臭氧處理是一個完全乾燥的過程✘↟·↟◕。而紫外臭氧清洗機內會配備臭氧清除裝置↟│₪│,廢氣臭氧在系統內分解↟│₪│,不會造成清潔室內的臭氧含量過高從而產生危害✘↟·↟◕。它也可配置成連續載入的清洗線↟│₪│,並可與DI水沖洗系統耦合↟│₪│,徹底清除表面的顆粒✘↟·↟◕。
  
  紫外臭氧清洗機常用於掃描探測顯微鏡的樣品應用↟│₪│,能用於清洗原子力顯微鏡探針↟│₪│,掃描探針顯微鏡標準和表面上常規的油漬層和殘留的無機材料↟│₪│,也能用來改變物體表面的疏水性↟│₪│,有助於部件和表面的化學改性↟│₪│,經過氧化和硬化處理的探針有利於在掃描過程中保持探針的幾何形狀↟│₪│,削尖的探針有利於提高側向解析度✘↟·↟◕。

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