勻膠機是在高速旋轉的基片上│·│，滴注各類膠液│·│，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地塗覆在基片上的裝置│·│，膜的厚度取決於該機的轉速和溶膠的黏度☁╃☁。採用觸控式螢幕設定可用於直徑28-200mm晶片塗覆│·│，儀器配有“安全開關按鈕”轉速範圍300-8500RPM│·│，可選無油或有油真空泵等配件☁╃☁。
近年來的發展趨勢是在自動工作方式的勻膠機中加入預塗增粘劑(HMDS)的冷板和熱板工藝模組│·│，以增強光刻膠和晶片的附著力☁╃☁。為了提高生產率│·│，國外已經研製出多種工藝模組任意組合的積木式結構│·│，有的還帶有膠膜自動測量和監控裝置☁╃☁。
應用╃◕₪◕：
該裝置主要用於晶片塗光刻膠│·│，有自動✘↟│▩、手動和半自動三種工作方式☁╃☁。
從其原理來說它有以下兩個特點╃◕₪◕：
(1)旋轉速度
轉速的快慢和控制精度直接關係到旋塗層的厚度控制和膜層均勻性☁╃☁。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大│·│，對於要求精密塗覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗資料的☁╃☁。目前轉速控制方面有國際認定標準│·│，如美國NIST標準等☁╃☁。
(2)真空吸附系統
真空泵一般採用無油泵│·│，即通常說的幹泵│·│，因為任何的油汙都可能堵塞真空管道│·│，如果真空吸附力降低│·│，會導致基片吸附不住而產生"飛片"的情況│·│，還會讓滴的膠液不慎進入真空管道系統造成*堵塞☁╃☁。有的勻膠機透過聯動機制│·│，當真空吸附力不夠時不會開始旋轉☁╃☁。這樣可有效避免滴的膠液不慎進入真空管道系統☁╃☁。
總的來說│·│，他們原理都是一樣的│·│，即在高速旋轉的基片上│·│，滴注各類膠液│·│，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地塗覆在基片上│·│，厚度視不同膠液和基片間的粘滯係數而不同│·│，也和旋轉速度及時間有關☁╃☁。
